За ноябрь импорт литографического оборудования в Китай из Нидерландов вырос в десять раз
В условиях усугубляющихся санкций китайские производители чипов активно закупают всё доступное для приобретения литографическое оборудование, ноябрьская статистика это явным образом продемонстрировала, поскольку за месяц в Китай было ввезено 16 литографических систем из Нидерландов на общую сумму $762,7 млн, что в десять раз больше итогов аналогичного месяца предыдущего года в стоимостном выражении.
С другой стороны, как поясняет South China Morning Post, в октябре этого года в Китай была ввезена 21 литографическая система из Нидерландов, но в стоимостном выражении итог октября составил $672,5 млн. Фактически, средняя стоимость импортируемого из Нидерландов оборудования выросла за месяц на 46 %. По сути, это указывает на способность китайских компаний закупать более современное и дорогое оборудование по сравнению с октябрём текущего года. Впрочем, некоторые аналитики считают, что ноябрьские поставки в Китай относятся к заказам, лицензирование которых осуществлялось ещё в начале текущего года по старым правилам. Непосредственно заказы были сделаны китайскими клиентами ASML ещё во втором или третьем кварталах 2022 года.
Всего за ноябрь китайские компании ввезли в страну 42 литографические системы на общую сумму $816,8 млн. Из них 15 поступили из Японии, а в совокупности с нидерландскими они обеспечили основную часть китайского импорта по итогам ноября. Импортозамещение в этой сфере китайской промышленности пока ещё хромает, поскольку не более 5 % необходимого литографического оборудования производится в КНР. США способны влиять на поставки оборудования в Китай через третьи страны, поскольку власти первой из стран применяют правило, согласно которому содержащие не менее 25 % технологических решений американского происхождения товары подпадают под правила американского экспортного контроля. С ноября вступили в силу более жёсткие ограничения на поставку в Китай из Нидерландов литографического оборудования не самых свежих поколений.
Источник